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研磨和拋光是同一種機(jī)械運(yùn)動(dòng)，原理是一樣的。而對(duì)于表面處理的情況而言，拋光的表面光潔度比研磨要更高一些。其實(shí)拋光液可以說(shuō)是研磨的后道工序，可以在同一臺(tái)平面拋光機(jī)上同時(shí)實(shí)現(xiàn)研磨和拋光。

研磨分為粗磨，精磨，拋光則分為粗拋，精拋。很多時(shí)候我們都是三道工序來(lái)進(jìn)行產(chǎn)品表面質(zhì)量的加工：粗磨，精磨，精拋。有了這三道工序，工件表面的平面度，平行度，粗糙度就相當(dāng)高了。

針對(duì)不同客戶的研磨的不同要求，研磨分為粗磨和精磨2類，有些客戶對(duì)研磨的進(jìn)度并沒(méi)有那么高，對(duì)于粗糙度要求來(lái)說(shuō)只采用粗磨和精磨兩道工序。具體還是要看進(jìn)行磨拋的工件本身質(zhì)量來(lái)說(shuō)，以及客戶要求達(dá)到的質(zhì)量和要求而定。

研磨和拋光可以在同一臺(tái)平面拋光機(jī)上實(shí)現(xiàn)，但是所用的配置卻不一樣。研磨需要用研磨盤和研磨液，拋光則是用拋光液和拋光盤，拋光墊，拋光布，拋光輪等。所用在一臺(tái)平面拋光機(jī)上實(shí)現(xiàn)研磨和拋光時(shí)需要研磨后更換盤，液體等配置。

綜上所述在研磨的過(guò)程中設(shè)計(jì)到的產(chǎn)品或者輔助配件主要有研磨盤、研磨液、拋光布。

 第一、研磨盤         研磨拋光機(jī)的研磨盤主要是由各種金屬粉末熔化后鑄造而成。這些金屬粉末具備一定的韌性和脆性，有很強(qiáng)的磨削能力，能快速地將各種工件表面打磨拋光。研磨盤的材質(zhì)有多種，常見(jiàn)的有鎢鋼、氧化鋁、氧化鈰、合成鐵或銅等。具體使用什么樣的材質(zhì)可以根據(jù)不同的使用條件或者介質(zhì)來(lái)決定。 

      金剛石研磨盤：指用于研磨機(jī)上的盤式磨具，由盤體和金剛石磨快組成，金剛石焊接或鑲嵌在盤體上，通過(guò)磨機(jī)的高速旋轉(zhuǎn)對(duì)工作面實(shí)施平整打磨。

   金剛石研磨盤主要應(yīng)用：在玉石、壽山石、水晶、瑪瑙、工藝品。近年來(lái)已在電子、光電、玻璃制品、電子管、晶體、工藝品、水晶燈飾、精密加工等行業(yè)廣fan使用。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷中東，東南亞、歐洲以及香港、臺(tái)灣等市場(chǎng)。

在金相試樣的制備過(guò)程中，有許多試樣直接磨拋(研磨、拋光)有困難，所以應(yīng)進(jìn)行鑲嵌。經(jīng)過(guò)鑲嵌的樣品，不但磨拋方便，而且可以提高工作效率及試驗(yàn)結(jié)果準(zhǔn)確性。通常進(jìn)行鑲嵌的試樣有：形狀不規(guī)則的試件；線材及板材；細(xì)小工件；表面處理及滲層鍍層；表面脫碳的材料等。

    樣品鑲嵌的常用方法有：

    1．機(jī)械鑲嵌法 機(jī)械鑲嵌法系試樣放在鋼圈或小鋼夾中，金屬元素分析儀然后用螺釘和墊塊加以固定。該方法操作簡(jiǎn)便，適合于鑲嵌形狀規(guī)則的試樣。

    2．樹(shù)脂鑲嵌法 樹(shù)脂鑲嵌法是利用樹(shù)脂來(lái)鑲嵌細(xì)小的金相試樣，可以將任何形狀的試樣鑲嵌成一定尺寸的試樣。樹(shù)脂鑲嵌法可分為熱壓和澆注鑲嵌法兩類。

   (1)熱壓鑲嵌法。元素分析儀熱壓鑲嵌法是將聚氯乙烯、聚苯乙烯或電木粉經(jīng)加熱至一定溫度并施加一定壓力和保溫一定時(shí)間，使鑲嵌材料與試樣緊固地粘合在一起，然后進(jìn)行試樣研磨。熱壓鑲嵌需要用鑲嵌機(jī)來(lái)完成。

   (2)澆注鑲嵌法。由于熱壓鑲嵌法需要加熱和加壓，金屬元素分析儀對(duì)于淬火鋼及軟金屬有一定影響，故可采用冷澆注法。澆注鑲嵌法適用于不允許加熱的試樣、較軟或熔點(diǎn)低的金屬，形狀復(fù)雜的試樣、多孔性時(shí)試樣等?；蛟跊](méi)有鑲嵌設(shè)備的情況下應(yīng)用。時(shí)間證明采用環(huán)氧樹(shù)脂較好，常用配方為：環(huán)氧樹(shù)脂90g，乙二胺10g，還可以加入少量增塑劑(磷苯二甲酸二丁脂)。按以上配比攪拌均勻，注入事先準(zhǔn)備好的金屬圈內(nèi)，圈內(nèi)先將試樣安置妥當(dāng)，約2～3h后即可凝固脫模。