第二、研磨液 研磨盤不可以單獨使用在研磨介質(zhì)上面，必須要由研磨液或者拋光液配合使用。研磨液一方面可以降低研磨盤加工時的工作溫度，另一方面可以起到潤滑的作用，不會給加工件造成損害。研磨液一般有水劑和油劑兩種類型，zui簡單的水劑研磨液可以是簡單的肥皂水，一般可以自制而成，這種研磨液制作成本非常低，但是沒有什么防銹能力，所以不太適合研磨金屬制品。而油劑研磨液是按照適當(dāng)?shù)谋壤{(diào)制有機(jī)溶劑而制成的，這種溶劑zui大的缺陷就是制作費用較高。
研磨液按其作用機(jī)理分：機(jī)械作用研磨液，化學(xué)機(jī)械作用研磨液。
機(jī)械作用的研磨液：以金剛石、B4C等為磨料，通過添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中，從而形成具有磨削作用的液體，稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以，機(jī)械作用的研磨液一般用于粗磨，后續(xù)還需要精密研磨拋光。
化學(xué)機(jī)械作用的研磨液：化學(xué)機(jī)械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進(jìn)行拋光以實現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面，是機(jī)械削磨和化學(xué)腐 蝕的組合技術(shù)，它借助超微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學(xué)機(jī)械作用研磨液又稱為化學(xué)機(jī)械拋光液 (Chemical Mechanical Polishing,簡稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對于拋光墊作相對運動，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的 有機(jī)結(jié)合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。
化學(xué)機(jī)械拋光液，根據(jù)磨料不同的分類：
二氧化硅研磨液 ，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。
金剛石研磨液根據(jù)磨料不同的分類：
金剛石研磨液是由金剛石磨料與分散液組成，根據(jù)金剛石微粉的類型分為單晶金剛石研磨液、多晶金剛石研磨液和爆轟納米金剛石研磨液三種。
1、單晶金剛石研磨液
單晶金剛石研磨液具有良好的切削力，加工成本相對較低。廣fan適用于超硬材料、硬質(zhì)合金等硬質(zhì)材料的研磨拋光。既可以提高磨削速率，又可以將磨削過程中產(chǎn)生的大量熱量迅速排走，從而避免工件表面被燒傷。
2、多晶金剛石研磨液
多晶金剛石研磨液利用多晶金剛石良好的韌性，在研磨拋光過程中能夠保持高磨削力的同時不易產(chǎn)生劃傷，為后續(xù)精密拋光加工提供了良好的條件。廣fan用于光學(xué)晶體、陶瓷、超硬合金等各種硬質(zhì)材料的研磨和拋光。
第三、拋光布
拋光布的使用可以提高拋光盤的效率，同時也可以對拋光盤和拋光介質(zhì)起到很好的保護(hù)作用。但是拋光布有一定的使用期限，而且不同規(guī)格的拋光布對工作溫度也有一定的要求。
研磨拋光機(jī)的合理使用離不開上述三種基本輔助材料。它對拋光的質(zhì)量和拋光機(jī)的使用壽命有非常重要的影響。
拋光布輪，主要是用布做成輪式用來拋光，是拋光機(jī)器常用的耗材之一，主要應(yīng)用于打磨的zui后工序拋光，也叫鏡面處理，拋光布具有很好的柔軟性和輕微的磨削力。拋光布的拋光主要目的在于去除研磨引入的表面損傷，獲得便于纖維觀測的光亮面。根據(jù)不同試樣材料及拋光工序，不同材質(zhì)的拋光布應(yīng)用領(lǐng)域也存在差異。
根據(jù)拋光布背部狀態(tài)，分為三大類：
1.自粘性襯背拋光布（帶背膠）：帶粘性背面，可黏貼于磨盤、轉(zhuǎn)化盤或磁性盤上，便于更換。
2.非粘性拋光布（不帶背膠）：非粘性背面，配套壓圈固定使用。
3.磁性襯背拋光布：又名磁性拋光盤，金屬背面，直接牢固磁吸于工作臺，大大方便拋光布的定位、拆除，存儲。
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